Toalhetes ultrafinos para salas limpas em escala nano
Os lenços umedecidos ultrafinos para salas limpas Weston Nano Scale são projetados para ambientes controlados que exigem baixa liberação de partículas, forte absorção e desempenho de limpeza confiável. Eles são construídos para áreas de semicondutores e de fabricação avançada, onde a limpeza da superfície afeta diretamente a estabilidade do processo.
Esses lenços combinam fibras ultra-finas de poliéster/náilon, uma estrutura de tecido não{1}}elástica e bordas seladas por ultrassom para oferecer limpeza precisa em condições de sala limpa ISO 4-5. O resultado é um pano que ajuda a remover contaminações persistentes, ao mesmo tempo que reduz o risco de introdução de novas partículas.
Principais recursos do produto
Construção de microfibra ultra{0}}fina para melhor absorção e remoção eficiente de partículas estranhas.
01
Superfície ultra-lisa de alta-densidade para ajudar a reduzir o derramamento de fibra-em nível de mícron durante limpeza-pesada.
02
Tecido não{0}elástico com bordas seladas por ultrassom para evitar rasgos e minimizar a geração de partículas.
03
Estrutura assimétrica de microfibra que elimina rapidamente a contaminação persistente, muitas vezes apenas com água, ajudando a reduzir preocupações com resíduos de IPA.
04
Estritamente limpo e embalado para suportar uso de baixa{0}contaminação antes de entrar na sala limpa.
05
Benefícios do produto
Esses lenços umedecidos são especialmente úteis quando a tarefa de limpeza envolve equipamentos sensíveis, superfícies-relacionadas a wafers ou áreas onde o controle de partículas é mais importante do que apenas a velocidade. Sua estrutura foi projetada para limpar sem quebrar facilmente sob pressão.
Como o material pode funcionar de forma eficaz com água, os usuários podem reduzir a dependência do IPA em algumas etapas de limpeza de rotina. Isso pode ser útil em operações onde o controle de resíduos e o gerenciamento de produtos químicos são importantes.
ProdutoEspecificações
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Item |
Detalhes |
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Nome do produto |
Toalhetes ultrafinos para salas limpas em escala nano |
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Marca |
Weston |
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Material |
Microfibra ultrafina de poliéster/náilon- |
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Estrutura do tecido |
Tecido não{0}}elástico |
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Tipo de borda |
Bordas seladas ultrassônicas |
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Tamanho |
8x8 cm |
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Embalagem |
Embalado a vácuo |
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Pacote Interno |
5 peças por pacote, embalagem-de peça única |
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Aula de sala limpa |
Adequado para ambientes ISO 4-5 |
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Uso principal |
Fábrica de semicondutores e limpeza avançada de salas limpas |
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Nó de aplicativo típico |
Fábricas de wafer operando abaixo de nós de processo de 10 nm |
Dados de teste
|
Item de teste |
Unidade |
Padrão/intervalo de teste |
Resultado |
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Desvio dimensional |
% |
±10 |
Qualificado |
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Desvio de largura |
milímetros |
±3 |
Qualificado |
|
Desvio de espessura |
milímetros |
±0.4 |
Qualificado |
|
Força de tração, longitudinal |
N·m/g |
Maior ou igual a 1,5 |
Qualificado |
|
Absorção |
% |
75.0–90.0 |
80 |
|
Taxa de absorção de água |
Tempos |
Maior ou igual a 2,0 |
Qualificado |
|
pH |
/ |
4.0–9.0 |
7.0 |
|
Água trocável |
% |
Menor ou igual a 10 |
Qualificado |
|
Partículas de poeira |
Contar |
Veja o detalhamento abaixo |
Qualificado |
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Tolerância de diâmetro |
milímetros |
+50 / -100 |
Qualificado |
Análise do controle de partículas
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Tamanho de partícula |
Limite |
Resultado |
|
0,2 mm a 1,0 mm |
Menor ou igual a 20 unidades/m² |
Qualificado |
|
1,0 mm a 2,0 mm |
Menor ou igual a 20 unidades/m² |
Qualificado |
|
Maior que 2,0 mm |
Menor ou igual a 1 peça/m² |
Qualificado |
Resultados de testes antibacterianos
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Item de teste |
Método |
Alvo |
Resultado |
Conclusão |
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Taxa antibacteriana |
Método de agitação GB/T 20944.3-2008 |
Staphylococcus amarelo ouro (ATCC6538) Maior ou igual a 70 |
>99 |
Efeito antibacteriano confirmado |
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Taxa antibacteriana |
Método de agitação GB/T 20944.3-2008 |
E. coli (8099) Maior ou igual a 70 |
99 |
Efeito antibacteriano confirmado |
|
Taxa antibacteriana |
Método de agitação GB/T 20944.3-2008 |
Candida branca (ATCC10231) Maior ou igual a 60 |
97 |
Efeito antibacteriano confirmado |
Cenários de aplicação
Esses lenços são usados principalmente em salas limpas FAB de semicondutores, especialmente em zonas de produção ISO 4-5. Eles são uma escolha prática para áreas onde a liberação de partículas, resíduos e integridade da superfície devem ser controlados ao mesmo tempo.
Os usos típicos incluem:
- Limpeza de equipamentos wafer antes e depois da manutenção.
- Limpeza de ferramentas e acessórios em áreas de processo com baixo teor de-partículas.
- Limpeza de superfícies ao redor de câmaras de processo sensíveis e zonas de transferência.
- Tarefas de limpeza de precisão onde a limpeza-à base de água é preferida.
- Remoção de contaminação de rotina em ambientes de produção de nós abaixo de 10 nm.
Exemplo de caso de uso
Em uma fábrica de semicondutores, a equipe de manutenção pode usar esses lenços para limpar as superfícies da máquina após o trabalho de manutenção. A estrutura do pano ajuda a remover resíduos oleosos e contaminações finas sem derramar facilmente fibras na área de trabalho.
Em outro exemplo, um operador de sala limpa pode usar lenços umedecidos-com água para limpeza rápida da superfície do alojamento de uma ferramenta. Isso pode reduzir a necessidade de uso repetido de IPA e, ao mesmo tempo, apoiar o controle de partículas.
Perguntas frequentes
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